FIB

 

Focused Ion Beam (FIB) JEOL JIB 4600F

Bei dem JIB 4600F handelt es sich um eine dual-beam FIB, d.h. dass die Probe parallel zur Bearbeitung beobachtet werden kann. Ausgestattet mit EDX, EBSD, einem Kleindiek Mikromanipulator und einer Elektronenlithographie – Einheit bietet es umfassende Möglichkeiten, angefangen bei der TEM Probenpräparation über die Materialcharakterisierung bis hin zur Materialmanipulation.

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Installation: 2011
Auflösung: 1.2 nm (30 kV, REM)
5 nm (30 kV, SIM)
Ausstattung:
  • TFEG
  • in-lens SE Detektor
  • BSE Detektor
  • WEDX Detektor (INCAEnergy 350, Oxford)
  • Kleindiek dreiachsiger Mikromanipulator
  • Gaseinlaßsysteme (Pt, C)
  • Lithographiesystem (Elphy Plus, Raith)